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三星电子平泽P3工厂是他们所建最大半导体工厂历时近两年建成

发布时间:2022-10-13 09:20   内容来源:TechWeb   责任编辑:如思      阅读量:16183   

据国外媒体报道,周三,三星电子宣布其位于平泽园区的P3生产线全面投产。

据外媒报道,三星电子位于平泽园区的P3芯片生产线于2020年底开工建设建设过程历时近两年,今年7月开始生产先进的NAND闪存

外媒报道称,本周全面投产的P3生产线是三星电子迄今为止建设的最大半导体工厂。

除了已经生产的NAND闪存,三星电子平泽园区的P3生产线也将用于生产基于极紫外光刻工艺的DRAM,以及5nm及以下工艺技术的晶圆代工5nm及以下制程工艺的晶圆代工厂也需要极紫外光刻机,他们在这条生产线上配置了来自ASML的极紫外光刻机

P3生产线投产后,三星电子还将在平泽园区建设P4生产线外媒在报道中还提到,P4生产线已经开始基本建设

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